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HMDS预处理真空烘箱
参考价:

型号:BD/HMDS-6210

更新时间:2024-12-12  |  阅读:3793

详情介绍

    HMDS预处理真空烘箱

    产品用途:该产品主要用于半导体行业,HMDS预处理系统通过对烘箱HMDS预处理过程的工作温度、处理时间、处理时保持时间等参数可以在硅片、基片表面均匀涂布一层HMDS,降低了HMDS处理后的硅片接触角,降低了光刻胶的用量,提高光刻胶与硅片的黏附性。

HMDS预处理真空烘箱

    一、产品规格:

    型号:BD/HMDS-6090内形尺寸:450×450×450

    型号:BD/HMDS-6210内形尺寸:560×640×600

    二、技术参数:

    1、控温范围:RT+10~250℃

    2、温度分辨率:0.1℃

    3、温度波动度:±1℃

    4、达到真空度:小于133Pa

    5、真空度:100Pa~100000Pa

    6、定时范围:1~9999min

    7、工作室材料:316L

    8、样品架:2块、3块

    9、真空泵:4L/S

    10、电源电压:220V/50Hz、380V/50Hz三相五线制

    11、总功率:3000W、4500W

    三、产品特点:

    1、外壳采用冷轧钢板制造,表面静电喷塑。内胆、样品机、连接管路均采用优质不锈钢316L材料制成;加热器均匀分布在内胆外壁四周,内胆内无任何电气配件及易燃易爆装置。钢化、防弹双层玻璃门观察工作室内物体一目了然。

    2、箱门闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。

    3、HMDS气体密闭式自动吸取添加设计,真空箱密封性能佳,确保HMDS气体无外漏顾虑。

    四、HMDS预处理系统操作流程:

    1、首先确定烘箱工作温度;

    2、预处理程序为:打开真空泵抽真空,待腔内真牢度达到某一高真空度后,开始充入氮气,充到达到某低真空度后,再次进行抽真空、充入氮气的过程,到达设定的充入氮气次数后,开始保持一段时间,使硅片充分受热,减少硅片表面的水分;

    3、再次开始抽真空,充入HMDS气体,在到达设定时间后,停止充入HMDS药液,进入保持阶段,使硅片充分与HMDS反应;

    4、当达到设定的保持时间后,再次开始抽真空。充入氮气,完成整个作业过程。

    五、控制系统:

    1、7.0英寸维纶彩色触摸屏,三菱PLC控制器;

    2、富士微电脑双数显温度PID控制器,控温精que可靠;

    六、保护系统:

    1、漏电保护;

    2、超温保护;

    3、缺液保护;

    七、设备使用条件:

    1、环境温度:5℃~+28℃(24小时内平均温度≤28℃)

    2、环境湿度:≤85%R.H

    3、操作环境需要室内通风良好,机器放置前后左右各80公分不可放置东西;

    八、HMDS预处理真空烘箱服务承诺:

    保修十八个月,免费送货上门,在对该设备安装调试结束后,在用户现场对相关技术人员免费做相应的操作培训,人数不限

    北京中科博达仪器有限公司产品系列:高温试验箱、低温试验箱、恒温恒湿试验箱、低温恒温试验箱、高低温试验箱、交变高低温试验箱、高低温湿热试验箱、交变高低温湿热试验箱、盐雾腐蚀试验箱、二氧化硫试验箱、鼓风干燥箱、高温烘箱、真空干燥箱、温度冲击试验箱、紫外光老化试验箱、氙弧灯耐气候试验箱、臭氧老化试验箱、换气老化试验箱、沙尘试验箱、淋雨试验箱、摆管淋雨试验设备、滴水试验设备、振动台、振动试验机、二氧化碳培养箱、霉菌培养箱、热空气消毒箱、低温培养箱、药品稳定试验箱、防锈油脂试验箱、大型盐雾试验室、大型低温恒温试验室、大型高低温检测试验室。

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