当前位置:首页  >  技术文章

202510-14
光刻工艺的 “黏合密码”:HMDS真空烘箱为何至关重要?

在集成电路制造的光刻环节中,硅片表面的亲水性与光刻胶的疏水性如同“水火难容”——未经处理的硅片会因表面羟基吸附水分,导致光刻胶涂布时出现气泡、漂条,最终造成图形...

查看详情 >>
  • 沙尘试验箱工作原理及常见故障处理

    2021-6-17

  • 简述盐雾腐蚀试验箱作用及工作原理

    2021-6-7

  • 真空干燥箱真空抽不上的原因

    2021-5-25

  • 氙灯老化试验箱的结构特点

    2021-5-17

  • 北京真空干燥箱特点

    2021-5-12

  • 500W紫外汞灯老化试验箱用途及技术指标

    2021-5-6

  • 氙灯老化试验箱使用范围

    2021-3-25

  • 氙灯老化试验箱的主要参考技术参数

    2021-3-11

共 531 条记录,当前 18 / 67 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
电话 询价

产品目录