当前位置:首页  >  技术文章

202510-14
光刻工艺的 “黏合密码”:HMDS真空烘箱为何至关重要?

在集成电路制造的光刻环节中,硅片表面的亲水性与光刻胶的疏水性如同“水火难容”——未经处理的硅片会因表面羟基吸附水分,导致光刻胶涂布时出现气泡、漂条,最终造成图形...

查看详情 >>
  • 电热恒温培养箱的几大特点介绍

    2017-3-20

  • 如何分辨台式恒温恒湿箱与立式恒温恒湿箱

    2017-3-15

  • 喷砂试验箱结构设计特点

    2017-3-9

  • 解析高低温交变湿热试验箱各项技术指标

    2017-2-28

  • 高低温湿热试验箱系统介绍

    2017-2-27

  • 高低温试验箱应该怎么做维护

    2017-2-20

  • 高低温湿热试验箱用途和结构特点

    2017-2-14

  • 淋雨试验箱的重要性

    2017-2-9

共 531 条记录,当前 37 / 67 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
电话 询价

产品目录