当前位置:首页  >  技术文章

202510-14
光刻工艺的 “黏合密码”:HMDS真空烘箱为何至关重要?

在集成电路制造的光刻环节中,硅片表面的亲水性与光刻胶的疏水性如同“水火难容”——未经处理的硅片会因表面羟基吸附水分,导致光刻胶涂布时出现气泡、漂条,最终造成图形...

查看详情 >>
  • 建筑用硬聚氯乙烯(PVC-U)雨落水管耐候性测试方法

    2016-6-30

  • 解析高低温试验箱不降温及降温慢的原因及解决方案

    2016-6-26

  • 解析盐雾试验箱之盐水配置方法

    2016-6-22

  • 解析真空干燥箱结构及原理

    2016-6-20

  • 解析橡胶热老化试验箱要求

    2016-6-17

  • 解析水冷氙灯耐气候老化试验箱试验操作方法

    2016-6-15

  • 解析换气老化试验箱用途、维护及注意事项

    2016-6-13

  • 解析真空表读数与真空度(Pa)的换算

    2016-6-11

共 531 条记录,当前 46 / 67 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
电话 询价

产品目录