关闭

当前位置：首页  >  技术文章

202510-14
光刻工艺的 “黏合密码”：HMDS真空烘箱为何至关重要？

在集成电路制造的光刻环节中，硅片表面的亲水性与光刻胶的疏水性如同“水火难容”——未经处理的硅片会因表面羟基吸附水分，导致光刻胶涂布时出现气泡、漂条，最终造成图形...

查看详情 >>
  • 混合气体腐蚀试验箱的操作规程中，对试验箱内部的检查包括哪些方面？

    2024-7-8

  • 混合气体腐蚀试验箱操作规程中对样品的预处理有哪些要求？

    2024-7-1

  • 太阳辐射试验箱的辐射强度对材料的影响有哪些？

    2024-6-28

  • 混合气体腐蚀试验箱的操作规程

    2024-6-26

  • 硫化氢腐蚀试验箱的维护和保养需要注意哪些关键点？

    2024-6-25

  • 流动混合气体腐蚀试验箱之试验方法2

    2024-6-11

  • GB/T28416--盐雾腐蚀试验箱试验步骤解析：

    2024-5-21

  • GB/T2423.51试验方法试验 Ke:流动混合气体腐蚀试验 试验程序2

    2024-5-8

共 529 条记录，当前 5 / 67 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
电话 询价

产品目录