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202510-14
光刻工艺的 “黏合密码”:HMDS真空烘箱为何至关重要?

在集成电路制造的光刻环节中,硅片表面的亲水性与光刻胶的疏水性如同“水火难容”——未经处理的硅片会因表面羟基吸附水分,导致光刻胶涂布时出现气泡、漂条,最终造成图形...

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  • 电工电子产品IPX3、IPX4防水测试要求及条件

    2015-4-9

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