当前位置:首页  >  技术文章

202510-14
光刻工艺的 “黏合密码”:HMDS真空烘箱为何至关重要?

在集成电路制造的光刻环节中,硅片表面的亲水性与光刻胶的疏水性如同“水火难容”——未经处理的硅片会因表面羟基吸附水分,导致光刻胶涂布时出现气泡、漂条,最终造成图形...

查看详情 >>
  • 流动性气体腐蚀试验箱之试验中所用腐蚀性气体的作用

    2023-4-25

  • 盐雾腐蚀试验箱的喷雾系统是怎么样的?

    2023-3-28

  • GB2423.37沙尘试验箱方法

    2023-3-22

  • 混合气体腐蚀试验箱之试验程序2

    2023-3-10

  • 汽车发电机沙尘试验箱技术要求

    2023-3-6

  • 隔水式恒温培养箱产品特点及结构特点

    2023-2-28

  • GB/T2423.51-2000流动混合气体腐蚀试验试验程序之一

    2023-2-27

  • 盐雾腐蚀试验箱设备意义和用途

    2023-2-20

共 531 条记录,当前 8 / 67 页  首页  上一页  下一页  末页  跳转到第页 
电话 询价

产品目录